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半導體裝備 Semiconductor
HORIS D8573AL 臥式低壓擴散爐 HORIS D8573AL Low Pressure Diffusion
??在晶體硅光伏電池行業,隨著電池片向大尺寸、超薄化、更高產能、更低的表面雜質濃度、更好方阻均勻性和更高能效比方向的發展,傳統閉管常壓擴散爐已不能滿足要求。HORIS D8573AL系列低壓擴散爐,它對156~162mm尺寸的電池片在每批次產能高達1200/管甚至更高的情況下,其擴散方塊電阻均勻性仍優于4%,與常壓擴散爐相比片均能耗降低50%以上,化學品消耗降低更是超過50%,也不用額外增加工藝時間,是高品質擴散的首選與環境友好型的生產方式。未來晶體硅光伏電池技術的發展,將對新型擴散技術和設備制造水平提出的進一步挑戰,光伏行業市場亟待新一代的高性能擴散技術

應用領域

光伏PV


適用工藝

磷硼等摻雜擴散、氧化、退火及摻雜-退火等一體新型工藝


產品優勢

  • 高方阻范圍內擴散均勻性優異。
  • 產能高、工藝時間短。
  • 低耗材、低能耗、高能效比。
  • 更精確的源壓控制系統和源瓶防爆系統,充分保證產能批次重復性、穩定性和安全性,專利保護。
  • 更精準高效的反應室變頻調壓系統,智能、可靠、持久,節省能源,專利保護。
  • 雙層爐門密封結構,更優秀的密封性能和可靠性。
  • 真空尾氣處理系統大量采用耐腐蝕材質,高效的過濾冷卻系統大幅延長防腐蝕隔膜泵壽命。
  • 專業的凈化系統和氣路系統設計,減少硅片顆粒污染。
  • 成熟的舟自動調度系統,并可與多種倒片系統匹配,自動運行。
  • 軟件符合semi標準,功能齊全、界面友好,具備MES功能(可選項)。
  • 具有多種安全報警保護、安全互鎖、歷史記錄、操作日志查詢功能。
  • 寬泛的工藝適用范圍,滿足多種工藝探索。








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