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半導體裝備 Semiconductor
HORIS D8572A 臥式擴散/氧化系統 HORIS D8572A Diffusion/ Oxidation

  利用在半導體領域數十年的擴散爐研發經驗和工藝積淀研制的多工藝流程擴散系統,滿足客戶多種制造工藝要求。HORIS D8572A實現了系統的閉管形式,可靠性指標MTBF900 h,大口徑爐體、溫區自動分布、控溫軟件開發、閉管結構、氣流控制、尾氣定向收集、爐體加工、自動上下料和工藝研發等一系列先進的久經產線驗證的設計與制造技術,保證了臥式擴散爐多工藝流程的高性能與長期可靠性,被廣泛運用于國內外各大半導體和光伏生產線。

  在集成電路IC、功率器件POWER和微機電系統MEMS制造行業,各類氧化、退火和摻雜擴散工藝對設備提出了近乎苛刻的要求。精準的溫度控制、穩定可重復的反應室壓力、百級凈化氛圍、高產能、良好維護性、較高的經濟性和可定制要求,使臥式擴散爐的制造技術和交付效率面臨極高的挑戰。

  干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成、擴散、退火、推進、合金和預沉積等多工藝流程需求,要求設備具有優異的工藝性能和靈活可靠的模塊化設計與制造水平,這需要耕耘半導體行業數十年的經驗來保證。


應用領域

集成電路 IC、功率器件 POWER、微機電系統MEMS


適用工藝

常壓(微正壓)閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散、退火常壓(微正壓)閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散、退火/推進、合金


產品優勢

  • 滿足干氧/濕氧/氫氧合成氧化、擴散、退火、推進、合金和預沉積等多工藝流程。

  • 優秀的薄膜厚度均勻性、折射率均勻性、方塊電阻均勻性。

  • 反應腔室類型和數量可選,模塊化組合設計。

  • 反應快速的反應室壓力平衡系統,提高工藝均勻性及重復性。

  • 專業的凈化系統和氣路系統設計,減少硅片顆粒污染。

  • 各管配獨立的傳動、加熱、氣路和控制系統,易于維護。

  • 成熟的舟自動調度系統,并可與多種倒片系統匹配,自動運行。

  • 軟件符合semi標準,功能齊全、界面友好,具備MES功能(可選項)。

  • 具有多種安全報警保護、安全互鎖、歷史記錄、操作日志查詢功能。

  • 1965年研制開發國內第一臺擴散爐,為國內設備與工藝最成熟擴散爐供應商。








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