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HORIS P8571A管式PECVD設備 HORIS P8571A Tube type PECVD

??在設備同等占地面積下提高單臺設備產能,優化工藝效果,一直是晶硅電池片生產線廠商對管式PECVD設備的迫切需求。HORIS P8571A管式PECVD通過對進氣方式、石墨舟、工藝反應腔室的獨特設計,保證工藝性能優異的基礎上提高單管的裝片量,以及通過提高爐體的快速回溫能力、工藝腔室真空抽速能力來壓縮工藝時間,同時,提高單臺設備的工藝管數量。HORIS P8571A管式PECVD設備通過上述性能的提升,單臺滿足160MW以上的產能和工藝需求。

應用領域

光伏PV


適用工藝

淀積SiNxSiOxSiONxAlOx單層或多層薄膜工藝


產品優勢

  • 單臺產能滿足160MW以上晶硅電池產線。
  • 獨特的進氣方式和分布,保證工藝成膜均勻性和重復性。
  • 專業的爐體和加熱系統設計,實現快速回溫,縮短工藝時間,改善薄膜均勻性。
  • 快速抽真空能力,縮短工藝時間,擴大工藝窗口,延長PM間隔時間。
  • 工藝靈活,可實現SiNx、SiOx、SiONx、AlOx等薄膜的單層/多層薄膜工藝。
  • 具備快速鍍膜工藝,提高生產效率。
  • 與傳統PECVD相比,產能增大50%,平均能耗更低,性價比更高。
  • 滿足高效電池工藝需求,例如PERC電池工藝、PID free。
  • 成熟的舟自動調度系統,并可與多種倒片系統匹配,自動運行。
  • 軟件符合semi標準,功能齊全、界面友好,具備MES功能(可選項)
  • 具有多種安全報警保護、安全互鎖、歷史記錄、操作日志查詢功能。






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